Composition of metal layers in CMOS-MEMS micromachining process

Benito Granados-Rojas, Mario Alfredo Reyes-Barranca, Luis Martin Flores-Nava, Griselda Stephany Abarca-Jimenez, Miguel Angel Aleman-Arce, Yesenia Eleonor Gonzalez-Navarro

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoContribución a la conferenciarevisión exhaustiva

1 Cita (Scopus)

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Composition of metal layers in CMOS-MEMS micromachining process'. En conjunto forman una huella única.

Matemáticas

Ingeniería y ciencia de los materiales