RF-magnetron sputtering deposition of ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 films for non-volatile memory applications

F. Ambriz-Vargas, R. Nouar, G. Kolhatkar, A. Sarkissian, R. Thomas, C. Gomez-Yáñez, M. A. Gauthier, A. Ruediger

Producción científica: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'RF-magnetron sputtering deposition of ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 films for non-volatile memory applications'. En conjunto forman una huella única.

Ingeniería y ciencia de los materiales

Química