Properties of al2o3 thin films grown by pe-ald at low temperature using h2o and o2 plasma oxidants

Jhonathan Castillo-Saenz, Nicola Nedev, Benjamín Valdez-Salas, Mario Curiel-Alvarez, María Isabel Mendivil-Palma, Norberto Hernandez-Como, Marcelo Martinez-Puente, David Mateos, Oscar Perez-Landeros, Eduardo Martinez-Guerra

Producción científica: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

10 Citas (Scopus)

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Properties of al2o3 thin films grown by pe-ald at low temperature using h2o and o2 plasma oxidants'. En conjunto forman una huella única.

Ingeniería y ciencia de los materiales

Química

Física y astronomía