Passivation properties of nitric/phosphoric etching on CdTe films: Influence of the etching time and nitric acid concentration

Título traducido de la contribución: Propiedades de pasivación del grabado nítrico/fosfórico en películas de CdTe: influencia del tiempo de grabado y la concentración de ácido nítrico

O. Vigil-Galán, A. Cruz-Orea, C. Mejía-García, J. Fandiño, M. F. García-Sánchez

Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › revisión exhaustiva

7 Citas (Scopus)

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Propiedades de pasivación del grabado nítrico/fosfórico en películas de CdTe: influencia del tiempo de grabado y la concentración de ácido nítrico'. En conjunto forman una huella única.

Química

Ingeniería y ciencia de los materiales

Física y astronomía