Parasitic electrostatic capacitances in Si/SiGe n-HFET

N. Zerounian, M. Enciso-Aguilar, T. Hackbarth, H. J. Herzog, F. Aniel

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoContribución a la conferenciarevisión exhaustiva

1 Cita (Scopus)

Resumen

The influence of parasitic capacitance on high frequency performances of SiGe n-HFET is reported. These capacitances due to fringe effect and electrostatic contribution of the gate are extracted from HF measurement and estimated with a 2D hydrodynamic modeling of the device and with a 2D electrostatic modeling of the HFET. These capacitances lower the intrinsic transit frequency in between 30-38% for the samples reported here. copyright The Electrochemical Society.

Idioma originalInglés
Título de la publicación alojadaSiGe and Ge
Subtítulo de la publicación alojadaMaterials, Processing, and Devices
EditorialElectrochemical Society Inc.
Páginas989-999
Número de páginas11
Edición7
ISBN (versión digital)1566775078
DOI
EstadoPublicada - 2006
EventoSiGe and Ge: Materials, Processing, and Devices - 210th Electrochemical Society Meeting - Cancun, México
Duración: 29 oct. 20063 nov. 2006

Serie de la publicación

NombreECS Transactions
Número7
Volumen3
ISSN (versión impresa)1938-5862
ISSN (versión digital)1938-6737

Conferencia

ConferenciaSiGe and Ge: Materials, Processing, and Devices - 210th Electrochemical Society Meeting
País/TerritorioMéxico
CiudadCancun
Período29/10/063/11/06

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Parasitic electrostatic capacitances in Si/SiGe n-HFET'. En conjunto forman una huella única.

Citar esto