LIGHT SCATTERING DUE TO INTERVALLEY ELECTRON DENSITY FLUCTUATIONS IN n-Si.

G. Contreras, A. K. Sood, M. Cardona

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoContribución a la conferenciarevisión exhaustiva

Resumen

Raman scattering due to intervalley electron density fluctuations is discussed for n-Si. The experimental results for several carrier concentrations, temperatures, and laser wavelengths are explained by a scattering mechanism based on intravalley diffusion.

Idioma originalInglés
Título de la publicación alojadaUnknown Host Publication Title
EditorialSpringer Verlag
Páginas1129-1132
Número de páginas4
ISBN (versión impresa)0387961089, 9780387961088
DOI
EstadoPublicada - 1985
Publicado de forma externa

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'LIGHT SCATTERING DUE TO INTERVALLEY ELECTRON DENSITY FLUCTUATIONS IN n-Si.'. En conjunto forman una huella única.

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