Electrical stress in CdS thin film transistors using HfO2 gate dielectric

R. García, I. Mejia, J. E. Molinar-Solis, A. L. Salas-Villasenor, A. Morales, B. García, M. A. Quevedo-Lopez, M. Alemán

Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › revisión exhaustiva

8 Citas (Scopus)

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Electrical stress in CdS thin film transistors using HfO2 gate dielectric'. En conjunto forman una huella única.

Física y astronomía