Effect of charged-particle bombardment on collector mirror reflectivity in EUV lithography devices

J. P. Allain, M. Nieto, A. Hassanein, V. Titov, P. Plotkin, M. Hendricks, E. Hinson, C. Chrobak, M. H.L. Van Der Velden, B. Rice

Producción científica: Contribución a una conferencia › Artículo