Development of 2.2 μm emission Ridge Waveguide lasers with low threshold GalnAsSb/GaAlAsSb DH wafers

M. B.Z. Morosini, J. L. Herrera-Pérez, A. C.F. Da Silveira, A. A.G. Von Zuben, M. S.S. Loural, N. B. Patel

Producción científica: Contribución a una conferenciaArtículo

Resumen

© 1992 Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc. All rights reserved. We show that the development of 2.2μm emission low threshold Ridge-Waveguide lasers from GalnAsSb/GaAlAsSb DH wafers is limited by the excessive current spread in the low resistivity p-type active layer.
Idioma originalInglés estadounidense
Páginas60-61
Número de páginas2
DOI
EstadoPublicada - 1 ene. 1992
Publicado de forma externa
EventoConference Digest - IEEE International Semiconductor Laser Conference -
Duración: 1 ene. 1992 → …

Conferencia

ConferenciaConference Digest - IEEE International Semiconductor Laser Conference
Período1/01/92 → …

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Development of 2.2 μm emission Ridge Waveguide lasers with low threshold GalnAsSb/GaAlAsSb DH wafers'. En conjunto forman una huella única.

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