Two excitation pathways of Pr3+ ion emission in HfO2:Si:Pr films depending on crystalline phase transformations in annealing

M. A. Garcia Andrade, T. Torchynska, J. L. Casas Espinola, E. Velázquez Lozada, G. Polupan, L. Khomenkova, F. Gourbilleau

Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › revisión exhaustiva

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Two excitation pathways of Pr3+ ion emission in HfO2:Si:Pr films depending on crystalline phase transformations in annealing'. En conjunto forman una huella única.

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