Temperature effect on photoluminescence excitation process of porous silicon

N. E. Korsunskaya, T. V. Torchinskaya, B. R. Dzhumaev, L. Yu Khomenkova, B. M. Bulakh, A. Many, Y. Goldstein, E. Savir

Producción científica: Contribución a una conferenciaArtículorevisión exhaustiva

Resumen

It is shown that temperature transformation of photoluminescence and photoluminescence excitation spectra are caused by presence of two different excitation channels. Photoluminescence intesity decrease under cooling is explained by impediment of energy transfer from adsorbent to luminescence centers while its increase under excitation via other channel is observed under cooling.

Idioma originalInglés
Páginas511-514
Número de páginas4
EstadoPublicada - 2000
Publicado de forma externa
Evento2000 International Semiconductor Conference - Sinaia, Rumanía
Duración: 10 oct. 200014 oct. 2000

Conferencia

Conferencia2000 International Semiconductor Conference
País/TerritorioRumanía
CiudadSinaia
Período10/10/0014/10/00

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Temperature effect on photoluminescence excitation process of porous silicon'. En conjunto forman una huella única.

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