SO2 capture in a chemical stable Al(III) MOF: DUT-4 as an effective adsorbent to clean CH4

Alfredo López-Olvera, Sandra Pioquinto-García, J. Antonio Zárate, Gabriela Diaz, Eva Martínez-Ahumada, Juan L. Obeso, Vladimir Martis, Daryl R. Williams, Hugo A. Lara-García, Carolina Leyva, Carla Vieira Soares, Guillaume Maurin, Ilich A. Ibarra, Nancy E. Dávila-Guzmán

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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'SO2 capture in a chemical stable Al(III) MOF: DUT-4 as an effective adsorbent to clean CH4'. En conjunto forman una huella única.

Ingeniería y ciencia de los materiales

Química