Peculiarities of Raman spectra from porous silicon

N. E. Korsunskaya, M. K. Sheinkman, M. Ya Valakh, T. V. Torchinskaya, L. Yu Khomenkova, V. A. Yukhimchuk, B. M. Bulakh, M. K. Dzhumaev, A. Many, Y. Goldstein, E. Savir

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoContribución a la conferenciarevisión exhaustiva

Resumen

The enhancement of the Raman intensity from porous layer compared to the signal from the silicon substrate was observed. It is assumed that this phenomenon is due to the specific form of pores that leads to the optical effect of focusing of scattered light near the bottom of the macropores. It was shown that peak position and shape of Raman line depend on the nanostructure of pore bottom.

Idioma originalInglés
Título de la publicación alojadaASDAM 2000 - Conference Proceedings
Subtítulo de la publicación alojada3rd International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems
EditoresJan Kuzmik, Jozef Osvald, Stefan Hascik, Juraj Breza
EditorialInstitute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
Páginas339-342
Número de páginas4
ISBN (versión digital)0780359399, 9780780359390
DOI
EstadoPublicada - 2000
Publicado de forma externa
Evento3rd International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems, ASDAM 2003 - Smolenice, Eslovaquia
Duración: 16 oct. 200018 oct. 2000

Serie de la publicación

NombreASDAM 2000 - Conference Proceedings: 3rd International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems

Conferencia

Conferencia3rd International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems, ASDAM 2003
País/TerritorioEslovaquia
CiudadSmolenice
Período16/10/0018/10/00

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Peculiarities of Raman spectra from porous silicon'. En conjunto forman una huella única.

Citar esto