FTIR and electrical characterization of a-Si:H layers deposited by PECVD at different boron ratios

A. Orduña-Diaz, C. G. Treviño-Palacios, M. Rojas-Lopez, R. Delgado-Macuil, V. L. Gayou, A. Torres-Jacome

Producción científica: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'FTIR and electrical characterization of a-Si:H layers deposited by PECVD at different boron ratios'. En conjunto forman una huella única.

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