Roberto Garcia

Producción científica

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• 2002

  Process parameters affecting plasma enhanced crystallization of a-Si : H using a PECVD equipment

  Garcia, R., Estrada, M., Cerdeira, A., Resendiz, L. & IEEE, 2002, En: 2002 23rd International Conference on Microelectronics, Vols 1 and 2, Proceedings.

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