Ultra-low noise strained Si/SiGe n- and Ge/SiGe p-MODFETs

M. Enciso, F. Aniel, P. Crozat, L. Giguerre, R. Adde, M. Zeuner, G. Höck, A. Fox

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoContribución a la conferenciarevisión exhaustiva

1 Cita (Scopus)

Resumen

Ultra-low noise and HF performances of Si/SiGe n- and Ge/SiGe p-MODFETs are presented and compared. A 130 nm n-MODFET yield de-embedded data like fT = 49 GHz, fMAX = 60 GHz, gmmax = 715 mS/mm and NFmin = 0.3 dB at 2.5 GHz. A 100 nm p-MODFET gave fT = 55 GHz, fMAX = 135 GHz, gmmax = 250 mS/mm, and NFmin = 0.5 dB at 2.5 GHz.

Idioma originalInglés
Título de la publicación alojadaEuropean Solid-State Device Research Conference
EditoresHeiner Ryssel, Gerhard Wachutka, Herbert Grunbacher
EditorialIEEE Computer Society
Páginas443-446
Número de páginas4
ISBN (versión digital)2914601018
DOI
EstadoPublicada - 2001
Publicado de forma externa
Evento31st European Solid-State Device Research Conference, ESSDERC 2001 - Nuremberg, Alemania
Duración: 11 sep. 200113 sep. 2001

Serie de la publicación

NombreEuropean Solid-State Device Research Conference
ISSN (versión impresa)1930-8876

Conferencia

Conferencia31st European Solid-State Device Research Conference, ESSDERC 2001
País/TerritorioAlemania
CiudadNuremberg
Período11/09/0113/09/01

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Ultra-low noise strained Si/SiGe n- and Ge/SiGe p-MODFETs'. En conjunto forman una huella única.

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