Texturado superficial de silicio mediante láser pulsado Silicon surface texturing by pulsed laser

L. Ponce, A. Castellanos, M. Arronte, T. Flores, E. Rodríguez, R. León, M. A. Montaigne

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Resumen

Texturing of silicon surfaces with pulsed laser is made. The method is based on the formation of laser-induced periodic surface structure (LIPSS). The process is temporary characterized through the dynamic reflectance, thus determining the formation threshold of the structure. Relation between the different textures and the spectral reflectance of the samples before and after the treatment is also characterized. The mean value of spectral reflectance decreases up to a 6 %.

Idioma originalInglés
Páginas (desde-hasta)144-147
Número de páginas4
PublicaciónRevista de Metalurgia (Madrid)
Volumen34
N.º2
DOI
EstadoPublicada - 1998
Publicado de forma externa

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Texturado superficial de silicio mediante láser pulsado Silicon surface texturing by pulsed laser'. En conjunto forman una huella única.

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